致真设备杭州基地落成 国产高端薄膜沉积装备加速产业化布局

近日，致真精密设备（杭州）有限公司正式开业，五十余位产、学、研、投代表齐聚杭州，共同见证国产高端半导体装备企业长三角战略布局的跨越式突破。依托国际领先的0.1nm级薄膜沉积控制技术与完全自主知识产权的设备架构，这家技术企业正以硬核科技为产业链自主可控注入强心剂。

开业现场图（受访者提供）

2018年，致真精密设备有限公司（以下简称“致真设备”）团队向纳米级薄膜沉积技术发起攻坚。历时三年昼夜攻关，首台国产单原子层精度磁控溅射设备于2021年横空出世——0.1nm沉积精度、±2%薄膜均匀性的实测数据，达到国际顶尖水平。

2021年5月14日，合肥致真精密设备有限公司应运而生。开启从原理样机研制、实验室设备开发到量产机型落地的三级跨越。四年间，产品线快速覆盖4-12英寸晶圆制造工艺，在航天芯片、量子器件、新型存储等领域累计替代进口设备超百台，成为国家重点工程的“装备基石”。

目前，致真设备已形成产业级薄膜制备设备、科研级薄膜制备设备、真空传输平台、超高真空零配件四大产品矩阵。

其中，致真设备自主研发生产的产业级薄膜制备设备，主要包含一批针对企业中试线和产线研发的磁控溅射设备。该系列设备性能高、效率高、成本低、稳定可靠，可实现8-12英寸基底上纳米级材料的生产制备需求，广泛应用于半导体晶圆制造、新型存储器、新型显示、新能源等领域，能够有效满足生产级和量产级的薄膜制备需求。

为进一步强化产业级设备体系的实力，致真设备12英寸装备杭州生产基地已正式投产。该基地将显著提升公司在大尺寸、高产能薄膜沉积装备领域的研发与制造能力。目前，公司研发和生产的面向新型存储器制备的12英寸薄膜沉积系统，已成功导入国内头部半导体生产企业，用于量产线关键膜层沉积。

MSI-400生产型磁控溅射设备（受访者供图）

致真设备自主研发生产的科研级薄膜制备设备，主要应用于4英寸基底镀膜。产品线涵盖磁控溅射设备、电子束蒸发设备、分子束外延设备和脉冲激光沉积设备等，可满足量子材料、二维材料、超导薄膜、光电功能层等前沿领域的精密镀膜需求，为新型器件原型开发、小批量试制及工艺迭代提供高效灵活的研发平台。

此次开业的杭州子公司，被致真设备董事长程厚义定位为“长三角12英寸集成电路装备创新引擎”，“选择落户杭州，是公司战略布局的重要一步。杭州公司的成立，标志着我们12英寸产业化设备的研制迈向新高地。将进一步提升致真设备在华东地区的服务能力与技术支撑，深化与杭州北航国新院、自旋芯片与技术全国重点实验室，以及杭州本地合作伙伴的协同创新，为客户提供更高效、更完备的解决方案。”

致真设备以杭州公司启航为新起点，未来，依托长三角世界级产业集群优势，致真设备将打造具有全球竞争力的薄膜沉积技术高地，实现关键装备的完全自主可控。通过构建“产学研用”深度融合的创新生态，致真设备正在走出一条跨越式发展之路。